型号:科晶GSL-2000X-VTQ
功能:科晶GSL-2000X-VTQ通过超高温(2000℃)+真空/气氛灵活切换+毫秒级淬火的三重技术整合,成为材料高温行为研究的关键设备,其控温精度达±1℃,空度最高达10⁻⁶ Torr,可容纳φ25mm×150mm样品管或φ60mm×60mm块体样品,支持2000℃极限温度下的真空烧结、气氛保护烧结及还原性工艺,广泛应用于材料相变研究、先进材料合成、催化与能源材料制备、真空热处理工艺研究等领域。
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